Mathieu
TECHNOLOGIE EUV: UNE ALTERNATIVE INNOVANTE AUX COÛTEUX SYSTÈMES DE LITHOGRAPHIE AU LASER
PRÉPARATIONS AVANCÉES ET COMPLEXITÉ TECHNIQUE
Alors qu’Intel, Samsung, TSMC, et la prochaine fonderie avancée du Japon, Rapidus, se préparent chacun de leur côté à intégrer de plus en plus de transistors dans chaque millimètre carré de silicium, ils sont tous confrontés à une complexité extrême, des coûts élevés et des dépenses onéreuses pour faire fonctionner la technologie de lithographie EUV. La source lumineuse de 13,5 nanomètres de ce système est le processus précis et coûteux de bombarder des gouttelettes de fer blanc en fusion avec les lasers commerciaux les plus puissants de la planète.
UNE ALTERNATIVE CONVENTIONNELLE
Des chercheurs du KEK, à Tsukuba, au Japon, estiment que la lithographie par EUV pourrait être plus économique, plus rapide et plus efficace s’ils utilisent un accélérateur de particules. Ils affirment que la meilleure solution pour la lithographie EUV implique une version de récupération d’énergie d’accélérateur linéaire, capable de générer de manière économique des dizaines de kilowatts de puissance EUV. Cela pourrait permettre d’alimenter plusieurs machines de lithographie de prochaine génération simultanément, réduisant ainsi les coûts de fabrication de puces avancées.
LINACS CONTRE PLASMA PRODUIT PAR LASER
Les systèmes EUV actuels reposent sur la technologie de plasma produit par laser, qui utilise un laser au dioxyde de carbone pour transformer le fer blanc en plasma émettant une lumière EUV. Cependant, cette méthode présente des défis majeurs en termes de coûts de fonctionnement, de consommation d’électricité et de complexité du processus.
L’ACCÉLÉRATEUR LINÉAIRE DE RÉCUPÉRATION D’ÉNERGIE
Le système développé par le KEK utilise un accélérateur linéaire de récupération d’énergie pour générer de la lumière en boostant des électrons à des vitesses relativistes. Ce processus permet de réduire les coûts et d’augmenter l’efficacité par rapport aux systèmes traditionnels de plasma produit par laser.
POSSIBILITÉS FUTURES
Alors que la technologie de laser produit par plasma reste dominante, des alternatives basées sur des accélérateurs de particules comme les lasers à électrons libres offrent des perspectives prometteuses pour l’avenir de la lithographie EUV. Des start-ups comme xLight explorent également ces innovations, ouvrant la voie à de nouvelles avancées dans le domaine.
Sources:
